EVG将在SEMICON China上展示行业领先的晶圆级光学元件（WLO）制造解决方案
奥地利圣弗洛里安，2018年3月13日——微机电系统（MEMS）、纳米技术以及半导体市场晶圆键合和光刻设备领先供应商EV Group（EVG）今日宣布，赢得了中国晶圆级光学元件（WLO）器件制造商对其晶圆级光学元件（WLO）制造设备的多个关键订单。中国已经成为了晶圆级光学元件（WLO）组件和模块的主要制造中心，这些组件和模块越来越多地被集成到智能手机、音频/虚拟现实（增强现实/虚拟现实）头戴设备等移动设备中，实现了全新的消费者应用和功能。在中国最新赢得的这些客户订单进一步加强了EVG作为晶圆级光学元件（WLO）制造工艺解决方案开拓者和市场领导者的地位。
智能手机市场继续推动影响消费者日常生活的众多新技术创新。中国已经成为了智能手机制造的领先地区，前十大智能手机制造商中有六家位于中国，全球大部分智能手机都是在中国制造的。下一代智能手机将配备十几种传感器，其中包括3D传感摄像头、指纹传感器、虹膜扫描仪、激光二极管发射器、激光测距仪和生物传感器。晶圆级光学元件（WLO）能够让智能手机实现全新的应用，从改进数字摄像头的自动对焦，到利用人脸识别提升智能手机安全性，再到凭借三维建模和成像增强提供增强现实/虚拟现实体验。
EV集团最先进的压印光刻和键合对齐技术为在晶圆级制造光学元件提供了众多优势。此处显示的是采用IQ Aligner自动UV-NIL系统压印光刻技术制造的透镜晶圆，以及由透镜晶圆和间隔晶圆组成的粘合微光学叠层。
EV Group销售及客户支持执行总监Hermann Waltl表示：“作为智能手机制造的领先地区，中国正在大力投资新制造方法，生产晶圆级光学元件（WLO）组件和模块，实现消费者要求的全新应用。EVG拥有近二十年的晶圆级制造经验，正在利用我们的工艺专长和行业领先解决方案帮助中国晶圆级光学元件（WLO）制造商快速提高晶圆级光学元件（WLO）组件和模块产量。不论是面对中国客户，还是面对全球客户，我们都遵循我们的‘3I’理念——发明（Invent）、创新（Innovate）、实施（Implement），这让我们能够不断帮助我们的客户满足他们的新需求和独特要求，凭借EVG的行业领先解决方案以最短的时间实现产品上市。”
晶圆级光学元件（WLO）是一种具有成本效益的技术，利用类似于先进半导体的制造工艺实现晶圆级光学元件小型化。EVG的晶圆级光学元件（WLO）解决方案包括：
用于母模版制作的EVG770自动UV-NIL步进器。母模板是指晶圆大小的模板，全面分布以微透镜模具，所有模具均以分步重复的方式通过单一透镜模板复制。从金属或玻璃制造的单镜头母模板开始，EVG提供涵盖了制作母模板所有必要步骤的工艺流程，拥有无与伦比的透镜位置精度和极高的透镜形状可重复性，用于制造高端晶圆级摄像头模块。
EV GROUP赢得来自中国的晶圆级光学元件设备订单
用于UV微透镜成型的IQ Aligner自动UV-NIL系统。软UV压印光刻技术是一种高度并行技术，用于制造晶圆级光学元件（WLO）系统的关键要素——聚合物微透镜。EVG以复制于晶圆尺寸母模板的软工作模板为起点，提供混合与单片微透镜成型工艺，可轻松用于多种组合材质的工作模板与微透镜材质。此外，EVG还提供先进的微透镜成型工艺，包括所有相关材料技术。
EVG40 NT自动测量系统。通过极高分辨率和精确度支持纵向与横向测量，测量学对于验证严格的工艺规范、即时优化集成流程参数至关重要。在晶圆级光学元件（WLO）制造过程中，EVG的测量解决方案可用于关键尺寸（CD）测量和镜头堆叠校准，以及多种其他应用。
EVG40 NT自动测量系统
NILPhotonics能力中心。EVG这些年来投入大量资源开发纳米压印（NIL）技术，作为一系列应用的高产量制造解决方案，其中包括发光二极管（LED）、微机电系统（MEMS）、光学、光伏以及其他器件。EVG的NILPhotonics能力中心利用EVG在纳米压印（NIL）以及晶圆键合等领域经过验证的工艺和设备专长帮助客户实现新兴光子应用，大幅缩短产品上市时间。
EVG将于3月14日至16日在上海新国际博览中心举行的SEMICON China上展示其晶圆级光学元件（WLO）制造解决方案。如果希望了解这些产品以及EVG全套光刻和晶圆键合解决方案的更多信息，欢迎到访3671号展位。
关于EV Group（EVG）
EV Group（ EVG ）是半导体、微机电系统（ MEMS ）、化合物半导体、功率器件和纳米技术设备制造领先的设备和工艺解决方案供应商。主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆加工、光刻/纳米压印（NIL）和计量（测量）设备，同时也生产涂胶机、清洗机和检查设备。 EV Group成立于 1980 年，为遍布世界各地的全球客户和合作伙伴提供服务与支持。
